当然初次试验肯定不会弄那种直接能让一个人通过大型传送门，而是准备做一对，以现有技术条件下可以做到的最小传送门。

    从布鲁斯那里了解到的阵法基础来看，其实阵法结构并没有固定的大小限制，只要技术可以做到多小就可以做多小的阵法，安娜城堡里的那传送门之所以做的那么大，主要的为了方便人通过，实际上单就那阵法本身来说，以那1微米多一点的精度来说，其实也可以做的非常小，小的只能伸一只手过去。

    而这次购买的光刻机的精度比那传送阵的精度还高了些，原则上还能进一步压缩传送阵的体积，不过为了释放方便些还是选择了先对比较保守的密度。

    阵法回路打印范围限制在宽08厘米，内经为10厘米圆环内，这样一来消耗的秘银非常稀少，只要不到零点几克的秘银就能完成一对超微型传送门制作。装上封好膜的硅片，设定了相关的尺寸范围后，设备也就迅速开始对硅片进行高精度的刻画，一个微小的光斑在硅片上快速的闪动着，阵法线路以极快的速度被刻画到了硅片上。

    只是等了片刻后两块有着对应阵法的硅片就成功的被刻画完成，甚至都没进过清洗就直接以滴液的方式，在那刻画的阵法上开始镀秘银，反复几轮
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